Laboratorio de Películas Delgadas
Descripción
El Laboratorio de Películas Delgadas desarrolla investigaciones tanto del proceso de crecimiento de películas delgadas del tipo metálicas y cerámicas del orden de los nanómetros, así como de sus propiedades físicas, químicas, estructurales y de tribología.
Equipamiento e instrumentos
El laboratorio cuenta con un sistema de deposición de películas delgadas llamado Magnetron Sputtering (pulverizador catódico) cuya finalidad es depositar y crecer de forma controlada películas delgadas de materiales metálicos y cerámicos.
El laboratorio también cuenta con un sistema automatizado de medida de la variación en curvatura de substratos de silicio con el objetivo de determinar el estrés intrínseco que se genera en las películas delgadas durante su proceso de crecimiento.
Miembros permanentes
- Rafael Pujada
Teléfono: +562 29784239
Correo electrónico: brpujada@ing.uchile.cl - Rodrigo Espinoza
Teléfono: +562 29784238
Correo electrónico: roespino@ing.uchile.cl
Académico responsable
- Prof. Rafael Pujada
Teléfono: +562 29784239
Correo electrónico: brpujada@ing.uchile.cl
Proyectos asociados
- Fondecyt Regular 1110148, titulo: "Stress in silver-doped Diamond-like-carbon (Ag-DLC) coatings and multilayers" (2011-2014).
- Fondecyt Regular 1130605, titulo: "High dielectric constant ceramics prepared by solid state reactions and magnetron sputtering" (2013-2016).
Publicaciones
- "Influence of deposition parameters on the structure and mechanical properties of Ag-DLC films deposited by radio frequency magnetron sputtering" (to be submitted).
- "Influence of micro- and nanoparticles of zirconium oxides on the dielectric properties of CaCu3Ti4O12 " (to be submitted).